化学气相沉积设备，又称CVD设备，指通过化学反应在基体表面沉积高性能超薄固体材料的设备。CVD设备需具备台阶覆盖性佳、高效节能、复杂表面适应性强、成分调控灵活、工艺兼容性强等特点，在光电器件、集成电路、功率器件、新能源、精密加工等领域应用较多。
CVD设备主要包括等离子体增强化学气相沉积设备（PECVD）、常压化学气相沉积设备（APCVD）、低真空化学气相沉积设备（LPCVD）、金属有机化学气相沉积设备（MOCVD）等。MOCVD设备通常利用三甲基镓（TMGa）、三甲基铟（TMIn）等有机金属前驱与氨气反应，进而制得沉积层，在LED、化合物半导体制造过程中应用较多。
根据新思界产业研究中心发布的《
2025年中国化学气相沉积设备（CVD设备）市场专项调研及企业“十五五规划”建议报告》显示，CVD设备用途广泛。在光电器件领域，CVD设备可用于光电探测器元件的制造过程中，还可用于制造OLED显示面板、LED芯片；在集成电路领域，其可用于集成电路栅极氧化层、互连阻挡层制备过程中，该领域为其最大需求端；在功率器件领域，其可用于制造氮化镓、碳化硅等宽禁带半导体功率器件；在新能源领域，其可用于制备太阳能电池电极材料。
近年来，国家对于半导体设备行业发展高度重视，已出台多项相关政策，主要包括《制造业可靠性提升实施意见》、《国家支持发展的重大技术装备和产品目录（2025年版）》、《贯彻实施<国家标准化发展纲要>行动计划（2024一2025年）》、《关于推动未来产业创新发展的实施意见》等。未来伴随国家政策支持，CVD设备作为半导体设备，行业发展速度将进一步加快。
我国CVD设备市场主要参与者包括沃尔德、微导纳米、拓荆科技、盛美上海、江丰电子、北方华创等。拓荆科技专注于高端半导体专用设备的研发、生产和销售，其CVD设备代表产品包括SACVD、HDPCVD、PECVD、ALD及Flowable CVD设备等。据拓荆科技企业年报显示，2024年公司半导体专用设备实现营收39.6亿元。
新思界
行业分析人士表示，CVD设备在众多领域应用广泛，未来伴随市场需求逐渐释放，其行业发展态势将持续向好。在市场竞争方面，我国已有多家企业布局CVD设备行业研发及生产赛道，预计未来一段时间，具备高端产品生产实力的企业将占据市场更大空间。
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