等离子体刻蚀机，指基于干法刻蚀工艺，利用等离子体选择性去除基材表面特定材料，进而创建精细电路图案的设备。等离子体刻蚀机具备材料适应性强、可精确控制刻蚀速率、各向异性刻蚀能力强等特点，在光学器件、半导体、生物医学、微机械加工等众多领域拥有巨大应用潜力。
近年来，我国等离子体刻蚀机研发热情持续高涨，带动其相关专利数量不断增加，主要包括《一种等离子刻蚀机刻蚀腔及等离子体刻蚀机》、《一种电极组件及等离子体刻蚀机》、《刻蚀室及感应耦合等离子体刻蚀机》、《一种具备环保废气处理功能的等离子体刻蚀机》、《一种半导体反应腔室及原子层等离子体刻蚀机》等。未来随着研究深入、技术进步，我国等离子体刻蚀机行业发展速度有望加快。
电感耦合等离子体刻蚀机（ICP）为等离子体刻蚀机代表产品。电感耦合等离子体刻蚀机可通过产生射频能量，激发气体并产生等离子体，进而实现刻蚀工艺，具备加工速度快、控制精度高、安全可靠性高等优势，可用于刻蚀较软或较薄材料。未来随着电感耦合等离子体刻蚀机应用需求增长，等离子体刻蚀机行业景气度将得到进一步提升。
根据新思界产业研究中心发布的《
2025年中国等离子体刻蚀机市场专项调研及企业“十五五规划”建议报告》显示，等离子体刻蚀机在众多领域拥有巨大应用潜力。在光学器件领域，等离子体刻蚀机可对微透镜阵列、光栅等光学器件表面进行精细处理；在半导体领域，其可用于存储器件、功率半导体以及逻辑芯片制造过程中；在微机械加工领域，其可用于MEMS器件制造过程中。未来随着市场需求逐渐释放，等离子体刻蚀机行业发展空间将得到进一步扩展。
全球等离子体刻蚀机市场主要参与者包括美国泛林集团（LAM）、美国应用材料公司（Applied Materials）等。在本土方面，我国等离子体刻蚀机主要生产企业包括中微公司、北方华创等。中微公司专注于半导体设备的研发、生产及销售，其5nm等离子体刻蚀机已成功通过台积电验证。
新思界
行业分析人士表示，等离子体刻蚀机在众多领域拥有潜在应用价值，未来随着我国半导体行业发展速度加快，其市场空间将得到进一步扩展。近年来，我国企业不断加大对于等离子体刻蚀机的研发投入力度，未来随着技术进步，其行业发展态势将持续向好。
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