根据辐射源不同，直写光刻机分为光学直写光刻机（如激光直写光刻机）和带电粒子直写光刻机（电子束直写光刻机、离子束直写光刻机等）。激光直写光刻机，是一种基于激光光源的无掩膜光刻设备，由激光器、显示器、CCD摄像机、照明光源等部分组成。激光直写光刻机具有高精度、高效率等特点，可用于印制电路板（PCB）、显示面板、集成电路、太阳能电池等的加工。
激光直写光刻机在电子、光伏、生物医学等领域广泛应用。在电子领域中，激光直写光刻机可用于制作集成电路器件原型、显示面板所需精细图形等；在光伏领域，激光直写光刻机可用于太阳能电池铜电镀工艺中。
根据新思界产业研究中心发布的
《2025-2029年全球及中国激光直写光刻机行业研究及十五五规划分析报告》显示，随着技术进步、下游行业持续发展，激光直写光刻机市场维持增长。2024年全球激光直写光刻机市场规模约为9亿元，预计2025-2031年期间其市场将继续以5.3%年复合增长率（CAGR）增长。
我国政府部门重视光刻设备行业发展，并出台多项政策给予支持，例如，《贯彻实施〈国家标准化发展纲要〉行动计划（2024—2025年）》《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024年版）》等。另外，近年来我国激光直写光刻机相关标准也在逐渐完善，具体包括团体标准《数字化无掩模激光直写光刻机（T/ZS 0344—2022）》《激光直写光刻设备（T/SZBX 178—2024）》等。在此背景下，我国激光直写光刻机行业发展进程进一步加快。
国外激光直写光刻机生产企业包括ASML公司、Heidelberg、Nikon等。我国激光直写光刻机研究、生产企业和机构包括浙江大学、洪镭光学、芯碁微装、苏大维格、无锡光刻电子、先地图像等。浙江大学光电科学与工程学院团队研发的“超分辨并行激光直写光刻技术与装备”，荣获2024年度中国光学学会科技创新奖特等奖——技术发明奖。
新思界
行业分析人士表示，激光直写光刻机是直写光刻机行业细分产品，应用前景广阔。在政策大力支持、技术进步、下游行业需求不断增长利好下，激光直写光刻机行业发展空间将进一步得到拓展。目前，我国有多家企业和机构加大对激光直写光刻机研发力度，随着技术持续取得突破，激光直写光刻机行业发展步伐进一步加快，并朝着高端化方向稳步发展。
关键字：
