匀胶显影机，是光刻工艺中完成涂胶、烘烤、显影等核心步骤的专用设备，由涂胶单元、显影单元、热板系统、控制模块等部分组成。根据自动化程度不同，匀胶显影机分为手动匀胶显影机、半自动匀胶显影机、全自动匀胶显影机，其中全自动匀胶显影机能够自动完成涂胶、烘烤处理、显影、清洗等步骤，无需人工介入。
根据新思界产业研究中心发布的
《2026-2030年全球及中国全自动匀胶显影机行业研究及十五五规划分析报告》显示，全自动匀胶显影机是半导体前道工艺核心设备之一，具有结构紧凑、控制精度高、工作效率高、支持多模块工艺自由组合等优点，可用于8英寸、12英寸等大尺寸晶圆匀胶工艺中。随着数字经济快速发展、企业生产能力提升，我国晶圆产能持续扩张，2024年约为900万片/月。在此带动下，我国全自动匀胶显影机市场具有广阔需求空间。
为促进全自动匀胶显影机行业高质量、规范化发展，我国已出台相关标准，包括团体标准《全自动匀胶显影机（T/ACCEM 169—2024）》、企业标准《全自动匀胶显影机（Q/QZKJ 01-2023）》等。
国外全自动匀胶显影机生产企业包括EVG Group、Suss MicroTec Group、Screen Finetech Solutions、TOKYO ELECTRON等。受技术壁垒高影响，我国全自动匀胶显影机市场长期依赖进口，进口依赖度达90%。随着布局企业研发能力提升，并成功推出一系列具有全自主知识产权产品，我国全自动匀胶显影机国产替代进程加快推进。
江苏雷博微电子设备有限公司、建华高科（中国电子科技集团）、宁波润华全芯微电子设备有限公司等是我国全自动匀胶显影机市场主要生产企业。雷博微电子旗下全自动匀胶显影机产品已实现量产交付，为我国半导体行业高端化发展提供支持。建华高科研发的“DYX-650S全自动匀胶显影机”创新性采用LD（直线驱动）喷头技术，显著提升显影液覆盖均匀性，适配异形基板等高难度工艺需求。
新思界
行业分析人士表示，全自动匀胶显影机在自动化、效率、性能等方面具有显著优势，应用前景可观。随着国家政策大力支持、半导体行业规模不断扩大，全自动匀胶显影机应用需求将持续释放，在匀胶显影机市场上占比将有所提高。受益于本土企业加大研发力度，攻克精密温控、高速匀胶等技术壁垒，我国全自动匀胶显影机行业技术水平不断提升，国产替代广阔。
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