无掩膜光刻机，又称直写光刻机，指无需使用物理掩膜版即可在基板表面直接形成光刻图案的微纳加工设备。无掩膜光刻机的工作原理是通过计算机将所需光刻图案输至空间光调制器，经过空间调制形成与设计图形一致的光学图像，再经过光学系统聚焦实现图形曝光。
无掩膜光刻机主要由光学镜头模组、光源系统、运动平台、DMD/SLM芯片等组件构成。在行业发展初期，受技术壁垒高、生产成本高等因素限制，欧美国家占据全球DMD/SLM芯片市场主导地位，我国需求高度依赖进口。近年来，受国际形势影响，我国企业不断加大对于无掩膜光刻机核心组件的研究，已取得众多新进展，这将为无掩膜光刻机行业发展提供有利条件。
无掩膜光刻机有多种类型，按照技术不同，可分为基于光学直写技术无掩膜光刻机和基于带电粒子直写技术无掩膜光刻机。基于光学直写技术无掩膜光刻机可细分为动态掩膜并行投影直写光刻机以及激光直写光刻机；基于带电粒子直写技术无掩膜光刻机可细分为电子束直写光刻机以及离子束直写光刻机。激光直写光刻机具备运行成本低、分辨率高等优势，为无掩膜光刻机代表产品。
根据新思界产业研究中心发布的《
2026-2031年无掩膜光刻机行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，与传统有掩膜光刻机相比，无掩膜光刻机简化了掩膜版制备、存储和对准等环节，具备运行成本低、灵活性高、可实时纠偏、兼容性强等优势，在PCB与IC载板制备过程中应用较多，需求占比达到近四成。近年来，随着数据中心、新能源汽车、消费电子等行业发展速度加快，我国PCB迎来广阔市场前景。2025年我国PCB产量达到50000万㎡。未来随着应用需求增长，我国无掩膜光刻机行业景气度将进一步提升。
芯碁微装、天津芯硕、源卓微纳、泽攸科技、江苏影速、和科达半导体、中山新诺等为我国无掩膜光刻机市场主要参与者。和科达半导体推出的无掩膜光刻机已在PCB及泛半导体直写光刻场景获得应用。
新思界
行业分析人士表示，无掩膜光刻机作为微纳制造设备，在众多领域拥有广阔应用前景。未来随着下游行业发展速度加快以及技术进步，我国无掩膜光刻机市场空间将得到进一步扩展。目前，我国已有多家企业布局无掩膜光刻机行业研发及生产，未来其市场国产化进程有望加快。
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