涂胶显影设备是在光刻工序中和光刻机配套使用的机器，主要起到涂胶、烘烤和显影的作用。涂胶显影设备是集成电路生产过程中不可获缺的设备，能够直接影响到光刻工序中曝光图案的形成。随着近几年半导体产业向国内转移，我国晶圆产量攀升，涂胶显影设备应用需求攀升，行业得到快速发展。
涂胶显影设备主要应用在晶圆生产中的前道EUV光刻中，以及后道的封测和LED制造中，在晶圆生产中起到重要作用。在人工智能、电子设备等产业发展带动下，全球半导体产业快速发展，涂胶显影设备市场规模持续攀升，在2020年达到20亿美元，其中前道市场规模高达19亿美元。按照当前设备智能化发展趋势，预计到2023年全球涂胶显影设备市场规模达到26亿美元，其中前道市场规模约为25亿美元。
根据新思界产业研究中心发布的
《2021-2025年涂胶显影设备行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，随着半导体产业向中国转移，我国半导体产需持续持续攀升，带动涂胶显影设备行业快速发展。在2020年我国涂胶显影设备市场规模约为8.5亿美元，其中前道市场规模为7.6亿美元。预计到2023年我国涂胶显影设备市场规模约为11亿美元，其中前道市场规模约为10亿美元。由此看出，全球以及我国涂胶显影设备市场需求主要受到EUV光刻发展带动。
在全球市场中，涂胶显影设备市场集中度较高，主要被日本东京电子、日本迪恩士、台湾亿力鑫、德国苏斯微、韩国CND等企业占据，其中日本东京电子是绝对的龙头企业，市场占比高达88%左右。当前国内涂胶显影设备市场被外企占据，东京电子、日本迪恩士两家企业市场占比高达96%，其中东京电子占比在90%左右。国内企业芯源微市场占比仅为4%。
在国内集成电路工艺中，芯源微电子是唯一一家定位于涂胶显影设备领域的企业，经过多年的研究，目前产品可用于后道封装和LED制造，用于前道生产工艺的涂胶显影设备也取得技术性突破，和长江存储、中芯绍兴等企业达成合作，将加快国产替代，预计未来芯源微电子市场占比将不断增长。
新思界
产业分析人士表示，涂胶显影设备在半导体生产中起到重要作用，在人工智能以及半导体产业向我国转移的影响下，国内涂胶显影设备应用需求持续攀升。涂胶显影设备生产技术门槛较高，市场集中度较高，国内市场被外企占据，国产率较低。但随着芯源微电子实现技术突破，生产的涂胶显影设备能够在前道和后道工艺中得到应用，将加速实现国产化。
