KrF光刻胶是半导体制造光刻工艺中不可或缺的关键材料，主要基于氟化氪（KrF）准分子激光的248纳米波长曝光技术，可用于90nm至28nm技术节点的逻辑芯片、存储芯片等产品制造。KrF光刻胶树脂也称KrF光刻胶成膜树脂，是一种专用于KrF光刻胶的高分子聚合物材料。从分子结构来看，KrF光刻胶树脂以聚对羟基苯乙烯（PHS）及其衍生物为核心材料体系，具体包括三类：APEX类、Acetal类和ESCAP类。
在半导体芯片制造的光刻工艺环节，光刻胶被称为芯片制造的“血液”，主要由树脂、感光剂、溶剂和添加剂四大部分组成，其中树脂为核心组分。KrF光刻胶树脂作为KrF光刻胶的核心树脂原料，其成本占光刻胶总成本的50%以上，性能直接影响光刻胶的分辨率、线宽粗糙度、耐热性及批次稳定性。
KrF光刻胶树脂技术壁垒极高，全球市场呈现出高度集中的“寡头垄断”特征，住友电木、东洋合成（Toagosei）、三菱化学、信越化学、JSR等日本化工巨头长期占据主导地位。我国KrF光刻胶树脂行业发展起步较晚，自给率极低，严重制约我国半导体产业链自主化发展。在国产替代战略窗口期下，国内企业正在加速突围。
八亿时空、彤程新材、鼎龙股份等是我国KrF光刻胶树脂市场主要参与者。八亿时空针对KrF光刻胶树脂核心技术开展深度攻关，目前多款产品顺利完成客户端认证，且在上虞生产基地成功建成国内首条百吨级半导体KrF光刻胶树脂高自动化柔性/量产双产线，实现产品稳定批量交付。
根据新思界产业研究中心发布的
《2026年中国KrF光刻胶树脂市场专项调研及企业“十五五规划”建议报告》显示，此外，国内其他企业也在KrF光刻胶树脂制备技术方面加大研究力度，并取得了多项发明专利，包括上海新阳半导体材料的“KrF厚膜光刻胶树脂、其制备方法和涂覆基材”、北京光舟科技有限公司的“一种KrF光刻胶成膜树脂及其制备方法与应用”等，有效为国内KrF光刻胶树脂产业发展赋能。
新思界
行业分析人士表示，随着更多本土企业在树脂合成、超纯化和量产控制等环节实现全栈突破，我国KrF光刻胶树脂行业正在从过去高度依赖进口、技术壁垒高企的“卡脖子”环节，逐步发展为具备自主创新能力和产业化规模的中国半导体材料核心领域。未来，随着技术成熟度提升与产能释放，我国KrF光刻胶树脂国产化率将逐步提升。
