过渡金属硫族化合物（TMD），指由过渡金属原子与硫族元素原子通过共价键结合构成的层状二维材料。过渡金属硫族化合物主要特点包括载流子迁移率高、开关比大、能带结构可调、化学稳定性好、机械强度高等优势，在能源存储、半导体制造、消费电子、光解水制氢等领域拥有巨大应用潜力。
过渡金属硫族化合物的制备技术为决定其产业化进程的关键因素。化学气相沉积法（CVD）、机械剥离法、分子束外延法（MBE）、金属有机化学气相沉积法（MOCVD）、原子层沉积法（ALD）等为过渡金属硫族化合物主要制备方法。在行业发展初期，受技术壁垒高等因素限制，我国过渡金属硫族化合物产能较低，欧美企业占据全球市场主导地位。
近年来，我国企业及相关科研机构不断加大对于过渡金属硫族化合物制备技术的研究，已取得众多新进展。2026年1月，东南大学王金兰团队与南京大学-苏州实验室王欣然团队合作，采用氧辅助调控MOCVD（oxy-MOCVD）生长策略，将前驱体硫化反应能垒从2.02eV降至1.15eV，使二硫化钼晶畴尺寸从百纳米级跃升至数百微米，成功攻克6英寸过渡金属硫化物二维半导体单晶量产核心技术。
根据新思界产业研究中心发布的《
2026-2030年过渡金属硫族化合物（TMD）行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，过渡金属硫族化合物在众多领域拥有巨大应用潜力，主要包括能源存储、半导体制造、消费电子、光解水制氢等。在能源存储领域，过渡金属硫族化合物可用于制造钠离子电池、锂离子电池以及超级电容器；在半导体制造领域，其可用于制造低功耗逻辑器件、超薄晶体管以及柔性芯片；在消费电子领域，其可用于制造折叠屏手机以及可穿戴设备；在光解水制氢领域，其作为光催化剂，可实现高效析氢。
全球过渡金属硫族化合物市场主要参与者包括美国ACS Material、美国NanoAmor、德国Strem Chemicals等。在本土方面，我国过渡金属硫族化合物行业尚处于起步阶段，目前主要以实验室研发为主。
新思界
行业分析人士表示，过渡金属硫族化合物作为层状二维材料，综合性能优良，在众多高新技术领域拥有广阔应用前景。目前，我国企业及科研机构在过渡金属硫族化合物制备技术方面已取得重大突破，将为其从实验室研发走向产业化应用提供有利条件。
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