三（二甲氨基）硅烷，简称3DMAS或TDMAS，分子式为C6H18N3Si，是一种氨基硅烷前驱体，含有三个氨基基团。
根据新思界产业研究中心发布的
《2026-2030年三（二甲氨基）硅烷（3DMAS）行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，三（二甲氨基）硅烷具有较好的稳定性、较高的蒸汽压、良好的反应性，可用于化学气相沉积（CVD）、原子层沉积（ALD）成膜工艺中，沉积氧化硅（SiO₂）、氮化硅（SiNx）及氮氧化硅（SiON）等高质量薄膜。三（二甲氨基）硅烷是目前原子层法沉积氧化硅研究的热点，应用集中于半导体集成电路、显示器件、光伏电池、存储器等领域。
三（二甲氨基）硅烷属于硅基前驱体材料。硅基前驱体是一类以硅元素为核心、含Si-C/Si-O/Si-N等化学键的化合物，主要包括三（二甲氨基）硅烷、二氯硅烷（DCS）、八甲基环四硅氧烷（OMCTS）、六氯乙硅烷（HCDS）、乙硅烷（DS）、双（二乙氨基）硅烷（BDEAS）等先进硅基前驱体材料。
受益于半导体、光伏等产业发展，硅基前驱体材料市场规模逐年增长，2025年国内市场规模达318亿元左右。硅基前驱体材料行业准入壁垒较高，默克、液化空气、SK Materials等国际企业占据全球市场主导。三（二甲氨基）硅烷作为硅基前驱体材料重要细分，也存在超高纯度要求、配方开发、客户认证、设备-材料生态锁定等进入壁垒。
三（二甲氨基）硅烷传统工艺是采用硅烷与二甲胺直接合成。安徽博泰电子材料有限公司申请的专利一种电子级三（二甲氨基）硅烷的生产工艺，制备得到电子级三（二甲氨基）硅烷，实现了纯度≥99.999%、氧含量≤20ppm、属杂质≤50ppb、收率提升至97%以上、能耗降低40%等要求。
我国三（二甲氨基）硅烷相关建设项目有太和气体（荆州）有限公司建设的高端电子化学品材料项目，该项目于2025年8月受理，项目共设置生产线25条，年产各类半导体生产用特种材料产品12418吨，其中包括三（二甲氨基）硅烷20吨/年。
新思界
行业分析人士表示，与传统硅烷类前驱体相比，三（二甲氨基）硅烷具有反应活性适中、成膜均匀性好、副产物少等优点，适用于高介电常数金属栅极、栅介质、存储电容等关键结构的制备，市场需求不断释放。《电子级三（二甲氨基）硅烷》国家标准制定项目于2026年6月在全国标准信息公共服务平台公示，南大光电半导体材料有限公司、苏州实验室、中国电子技术标准化研究院等为起草单位。
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