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胶体二氧化硅(胶态二氧化硅)可用于半导体抛光工艺中 行业发展速度有望加快

2026-09-14 09:39      责任编辑:杨光    来源:www.newsijie.com    点击:


        胶体二氧化硅,又称胶态二氧化硅,指纳米级无定形二氧化硅颗粒在水或有机溶剂中形成的稳定分散体系。胶体二氧化硅具备强吸附性、流动性以及高比表面积,在熔模铸造、电子抛光、涂料、催化剂、耐火材料、造纸、制药及个人护理等众多领域有所应用。按照表面电荷性质不同,胶体二氧化硅可分为碱性胶体二氧化硅和酸性胶体二氧化硅两种。

        离子交换法、Stöber法等为胶体二氧化硅主要制备方法。离子交换法指以硅酸钠溶液为原材料,利用氢型阳离子交换树脂进行离子交换,再经过聚合生长,熟化、浓缩等流程制得成品,该法为胶体二氧化硅主流制备方法;Stöber法以正硅酸四乙酯(TEOS)为原材料,加入氨催化剂,经过水解缩合反应制得成品。

        硅酸钠为胶体二氧化硅核心原材料,占据其较大生产成本。受益于技术成熟度提升,我国硅酸钠产量不断增长。2025年我国硅酸钠产量达到近500万吨,同比增长近10%。原材料供应充足将为我我国胶体二氧化硅行业发展奠定良好基础。

        胶体二氧化硅在众多领域应用广泛,主要包括熔模铸造、电子抛光、涂料、催化剂、耐火材料、造纸、制药及个人护理等。在电子抛光领域,胶体二氧化硅作为半导体抛光剂原料,可用于前道多晶硅栅极抛光、后道铜互连抛光以及大硅片精抛环节。

        根据新思界产业研究中心发布的《2026-2030年胶体二氧化硅(胶态二氧化硅)行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示,近年来,随着全球半导体产业逐渐向我国大陆转移,我国集成电路产量不断增长。据国家工信部统计数据显示,2026年1-4月,我国集成电路产量达到2286亿块,同比增长25.4%。在此背景下,胶体二氧化硅行业发展速度有望加快。

        全球胶体二氧化硅主要生产企业包括荷兰诺力昂(Nouryon)、日本三菱化学(Mitsubishi)、德国赢创工业(Evonik)等。三菱化学正在推进超高纯胶体二氧化硅产业化建设,预计于2028年10月正式投产。

        我国胶体二氧化硅主要生产企业包括湖北汇富纳米材料股份有限公司、上海新安纳电子科技有限公司、浙江宇达化工有限公司等。新安纳电子主营产品包括电子级胶体二氧化硅、硅片抛光液等,产品已在半导体制造领域获得应用。新思界行业分析人士表示,未来伴随本土企业持续发力,我国胶体二氧化硅行业发展态势将持续向好。
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