浸没式光刻机，指将传统光刻机投影物镜最后一个透镜与硅片光刻胶之间的空气介质替换为高折射率液体，利用液体折射率大于空气特性，显著提升光刻分辨率的光刻设备。浸没式光刻机具备多重曝光能力、分辨率高等优势，在逻辑芯片、存储芯片制造过程中拥有广阔应用前景。
浸没式光刻机主要由光源系统、浸液系统、投影物镜系统、掩模台系统、工件台系统及整机控制系统组成。光源系统为浸没式光刻机核心组成部分，主要采用ArF准分子激光器发射光源，其工作波长为193nm。浸液系统包含液体循环系统、纯化系统、浸没罩以及气泡去除装置，为浸没式光刻机特有子系统，主要用于注入并维持高纯去离子水介质。目前，受技术壁垒高等因素限制，海外企业长期占据浸没式光刻机组件市场主导地位，我国需求高度依赖进口。
根据新思界产业研究中心发布的《
2026-2031年浸没式光刻机行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，浸没式光刻机主要应用于半导体制造的光刻工艺环节。近年来，伴随国家政策支持以及技术进步，我国芯片行业发展速度不断加快。据国家工信部统计数据显示，2025年我国芯片产量达到4843亿块，同比增长10.9%。浸没式光刻机可用于制造逻辑芯片以及存储芯片，未来伴随应用需求增长，其市场空间将得到进一步扩展。
全球浸没式光刻机行业集中度较高，日本尼康株式会社（Nikon）、荷兰ASML公司占据市场主要份额。尼康推出的NSR系列浸没式ArF光刻机可用于28nm及以上制程芯片光刻工艺中；ASML为全球光刻机龙头企业，其推出的TWINSCAN NXT系列浸没式DUV光刻机采用双工件台技术，英特尔、三星、SK海力士、台积电等芯片制造商为其主要客户。
在本土方面，受国际贸易政策影响，我国企业进口光刻机等半导体设备面临困难。在此背景下，我国浸没式光刻机市场国产化进程有所加快，上海微电子装备（集团）股份有限公司、上海宇量昇科技有限公司等已具备其高性能产品生产实力。
新思界
行业分析人士表示，浸没式光刻机为光刻机代表产品。未来随着全球半导体产业向我国大陆转移，我国芯片产能持续扩张，产量不断增长，将带动浸没式光刻机应用需求日益旺盛。目前，我国企业正在积极推进对于高性能浸没式光刻机的研发及生产，未来其市场国产化率将进一步提升。
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