高纯溅射靶材主要是指纯度为99.9%-99.9999%的金属或非金属靶材，应用于电子元器件制造的物理气象沉积工艺，是制备晶圆、面板、太阳能电池等表面电子薄膜的关键材料。
溅射镀膜相比真空镀膜工艺可重复性好、膜厚可控制，可在大面积基板材料上获得厚度均匀的薄膜，所制备的薄膜具有纯度高、致密性好、与基板材料的结合力强等优点，已成为制备薄膜材料的主要技术。
新思界产业研究中心发布的《
2017-2021年中国靶材行业竞争格局与主要竞争对手分析报告》显示，靶材主要用于集成电路、平板显示器、太阳能电池、磁记录媒体、光学器件等。其中，高纯溅射靶材则主要用于对材料纯度、稳定性要求更高的领域，如集成电路、平板显示器、太阳能电池、磁记录媒体、智能玻璃等行业。
在晶圆制造环节，靶材主要用于执着晶圆导电层、阻挡层以及金属栅极，而且在芯片封装环节，靶材用来生成凸点下金属层、布线层等金属材料。由于溅射靶材的品质直接影响导电层、阻挡层的均匀程度及性能，进而影响芯片传输速度及稳定性，因此靶材是半导体生产的核心原材料之一。半导体芯片对溅射靶材的金属材料纯度、内部微观结构等方面的标准极其苛刻。
高纯溅射靶材伴随半导体工业的发展兴起，其研发生产设备专用性强。高纯溅射靶材生产企业分布和半导体工业高度相关，行业区域集中度较高。目前，全球溅射靶材研制和生产主要集中在美国、日本少数几家公司。以霍尼韦尔（美国）、日矿金属（日本）、东曹（日本）等跨国集团为代表的溅射靶材生产商占据主导地位。这些企业具备多年技术积淀、雄厚的技术力量、精细的生产控制和过硬的产品质量，占据绝大部分市场份额。
伴随海外液晶平板市场向国内转移和国内半导体材料市场的高速发展，作为两条产业交点的靶极溅射材料同时受益于下游需求驱动，国内靶材市场总空间超过150亿元，以江丰电子为代表的高纯靶材企业率先打破海外技术封锁，实现进口替代，公司未来将在半导体、平板和光伏领域需求的共同驱动下迎来高速增长。目前，我国主要是宁波丰电子、有研亿金，福建阿石等企业在国内占据少量市场。
新思界
行业研究员表示，伴随着中国靶材企业技术的不断创新，本土靶材企业有望在细分领域内和日美跨国集团竞争。
