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半导体市场持续发展 半导体光刻胶产品需求不断扩大

2019-11-25 12:31      责任编辑:周妤    来源:www.newsijie.com    点击:
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半导体市场持续发展 半导体光刻胶产品需求不断扩大

  半导体材料处于整个产业链的上游环节,对半导体产业起着重要的支撑作用,大体可分为硅片、光掩膜、光刻胶、湿电子化学品、CMP抛光材料、靶材、电子特种气体以及其他。其中半导体光刻胶种类繁多,可以大致分为g线光刻胶、i线光刻胶、KrF光刻胶和ArF光刻胶等四个类型,ArF光刻胶为目前分辨率最高的半导体光刻胶,g线光刻胶和i线光刻胶为目前市场上使用量最大的半导体光刻胶。
 
  根据新思界产业研究中心发布的《2019-2024年半导体光刻胶行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示,从全球市场来看,2018年全球半导体光刻胶市场规模达到13亿美元,与上一年12亿美元的市场规模相比,增长了约8.3个百分点。未来随着下游应用市场需求的不断扩大,全球半导体光刻胶市场仍将保持持续发展,预测发展到2021年,全球半导体光刻胶市场规模将得到17亿美元。而在全球市场,我国半导体光刻胶市场规模占全球比重最大,达到整体的三成以上。由此可以看出,我国半导体光刻胶市场正向好发展。
 
  从光刻胶产品种类来看,在全球市场,半导体光刻胶、PCB光刻胶和LCD光刻胶这三大类占比较为均衡;而在中国市场,是由PCB光刻胶占据着市场的主导地位,所占市场份额已经高达九成以上,而半导体光刻胶所占市场份额还不足3%。可以看出,我国半导体光刻胶所占份额相对较低,未来市场提升空间巨大。
 
  从市场格局来看,我国半导体光刻胶市场的主要企业有日本的TOK、JSR、富士胶片、信越化学、住友化学以及美国的陶氏化学等,而国内本土光刻胶企业主要包括北京科华微电子、苏州瑞红以及南大光电等。由于光刻胶市场具备较高的技术壁垒和客户壁垒,这使得我国半导体光刻胶行业市场集中度相对较高,外资企业占据着市场的绝大份额;未来随着国内企业相关技术水平的不断提高,我国国产半导体光刻胶市场有望得到进一步发展。
 
  新思界行业分析人士表示,近年来,随着国家利好政策的大力支持下,市场需求的持续增加,我国半导体市场得到迅速发展,产品得到持续提高,其生产材料市场需求也得到不断扩大。而光刻胶作为光刻过程的核心材料,是集成电路和平板显示两大产业光刻工艺的重要部分,因此我国半导体市场的快速发展,在一定程度上扩大了半导体光刻胶市场需求的不断扩大,进而对市场发展产生了良好的推动作用。
 
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