光致产酸剂（PAG）又称光致酸产生剂，简称光酸，是一类在光、射线、等离子体等辐射下能分解生成特定酸的物质。
光致产酸剂可分为离子型光致产酸剂、非离子型光致产酸剂两大类，以二芳基鎓碘盐/二芳基磺酸盐为代表的离子型光致产酸剂应用较广泛。非离子型光致产酸剂以磺酸酯类化合物为主要类型，其在有机溶剂、聚合物薄膜中溶解度较高，但热稳定性、光敏感性较差。
作为光敏材料，光致产酸剂主要应用在半导体光刻胶、热敏CTP胶、光固化涂料等领域。光刻胶是半导体核心材料之一，近年来，得益于国家政策扶持、核心技术突破，我国半导体产业发展加速，半导体光刻胶市场规模随之扩大，2023年达百亿元以上。半导体光刻胶主要由光敏材料、树脂、溶剂等组成，随着光刻胶市场发展，半导体光刻胶用光敏材料市场需求空间随之扩大。
根据新思界产业研究中心发布的《
2024-2029年中国光致产酸剂（PAG）行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，光致产酸剂、感光化合物（PAC）是目前半导体光刻胶用光敏材料主要类型，其中光致产酸剂主要应用在聚对羟基苯乙烯树脂体系（KrF光刻胶）、聚甲基丙烯酸酯树脂体系（ArF光刻胶）、EUV光刻胶等化学放大型体光刻胶中，2024年我国KrF、ArF、EUV等光刻胶所用光致产酸剂市场需求空间将达14.5亿元。
光致产酸剂行业存在一定的技术、研发壁垒，市场集中度较高，目前日美企业占据全球市场主导，包括贺利氏电子化学材料公司、日本San-Apro公司、东洋合成工业株式会社、光纯药株式会社、日本富士胶片株式会社等企业。长期以来，我国光致产酸剂市场需求依赖进口，进口光致产酸剂价格高、供货周期长，严重制约了国产半导体光刻胶的发展。
近年来，在国产替代背景下，我国光致产酸剂产业化逐渐实现突破，相关企业包括威迈芯材、万润股份、强力新材、徐州博康等。目前万润股份的光致产酸剂已实现中试产品供应，威迈芯材已累计交付数十款光致产酸剂（PAG）产品，其“浸没式氟化氩光刻胶用光致产酸剂”获得了“CIIF新材料奖”。
新思界
行业分析人士表示，光致产酸剂是重要的半导体光刻胶用光敏材料，随着KrF、ArF等半导体光刻胶生产规模扩大，光致产酸剂市场需求将持续释放，行业发展空间广阔。光致产酸剂技术壁垒高，全球市场由日美企业主导，目前我国已实现光致产酸剂产业化突破，在国产替代背景下，国产光致产酸剂将迎来广阔发展空间。
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