三甲硅烷基胺，简称TSA，分子式（SiH₃）₃N，是一种重要的有机硅化合物，外观呈无色流动性液体，分子中有三个Si原子和一个N原子。三甲硅烷基胺化学性质活泼，易与水、氧气发生反应，具有易水解、自燃性高、反应活性高等特点。
三甲硅烷基胺可用于医药合成、半导体、新材料等领域，在医药合成中，三甲硅烷基胺可作为强碱和硅烷化试剂，在半导体工业中，三甲硅烷基胺可为作为化学气相沉积（CVD）、原子层沉积（ALD）、流体化学气相沉积（FCVD）等的前驱体，由其制造硅基薄膜（如氮化硅薄膜）可用于制造DRAM、NAND等。
三甲硅烷基胺可通过单卤硅烷（如氯硅烷）与氨反应、热解全氢聚硅氮烷、氨基转移等途径制备，其中单卤硅烷与氨反应制备三甲硅烷基胺为主流合成路线，该合成方法主要包括气相反应法和液相反应法两种。
根据新思界产业研究中心发布的
《2026-2031年中国三甲硅烷基胺（TSA）行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，国内安徽亚格盛电子新材料股份有限公司、大连科利德光电子材料有限公司、山东兴泰硅材科技有限责任公司、中船（邯郸）派瑞特种气体股份有限公司、金宏气体股份有限公司等多家企业拥有三甲硅烷基胺合成工艺、合成系统或提纯技术相关专利。
作为硅基前驱体材料，三甲硅烷基胺市场规模处于增长中，2025年全球市场规模约26.5百万美元，预计2032年将增至43.6百万美元。我国是全球半导体产业重要参与者，晶圆厂产能正快速扩张，预期内三甲硅烷基胺市场增速将高于全球平均水平。
目前国内多个三甲硅烷基胺相关产业化项目正在推进。太和气体（荆州）有限公司的高端电子化学品材料项目，包含三甲硅烷基胺50吨/年；山东兴泰硅材科技有限责任公司拟投资5000万元在新泰化工产业园建设的50吨/年电子级三甲硅烷基胺产品项目。
在标准建设方面，SJ/T 12216-2026《电子级三甲硅烷基胺》由工业和信息化部发布，将于2026年12月1日起正式实施，起草单位包括南大光电、苏州实验室、长江存储、金宏气体、洛阳中硅等多家企业。
新思界
行业分析人士表示，三甲硅烷基胺不含有碳和氯，且挥发性强，作为前驱体，避免了碳的引入和沉积过程中NH4Cl副产物的形成，在ALD氮化硅薄膜中发挥着重要作用。我国在三甲硅烷基胺领域已实现产业化，南大光电、金宏气体、山东兴泰等企业已实现技术突破和产线建设，我国供应能力不断提升。
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