光刻胶猝灭剂，指在化学放大光刻胶（CAR）中用于捕获、中和或抑制光致产酸剂（PAG）所产生酸扩散的化合物。光刻胶猝灭剂具备相容性性佳、杂质含量低、添加量低等特点，在KrF光刻胶、ArF光刻胶和EUV光刻胶中有所应用。
光刻胶猝灭剂种类丰富。按照化学结构不同，光刻胶猝灭剂可分为鎓盐、含氮碱性化合物、磺酸盐与羧酸盐；按照作用模式不同，光刻胶猝灭剂可分为常规碱性猝灭剂、酸敏型猝灭剂、光分解型猝灭剂、聚合物键合型猝灭剂等。光分解型猝灭剂（PDQ）在曝光后碱性降低，可实现对比度增强，未来有望成为光刻胶猝灭剂市场主流产品。
光刻胶猝灭剂属于光刻胶添加剂，在KrF光刻胶、ArF光刻胶和EUV光刻胶中应用较多。ArF光刻胶主要用于7-45nm先进制程逻辑芯片和高端存储芯片制造环节。近年来，随着3D NAND闪存堆叠层数不断增长，ArF光刻胶应用需求日益旺盛。2025年，全球ArF光刻胶市场规模达到近10亿元。在此背景下，光刻胶猝灭剂行业发展将迎来机遇。
根据新思界产业研究中心发布的《
2026-2030年光刻胶猝灭剂行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，随着应用需求日益旺盛，光刻胶猝灭剂行业发展空间持续扩展。2025年全球光刻胶猝灭剂市场规模达到近1.5亿美元，同比增长近10%。未来伴随半导体产业发展速度加快以及技术进步，光刻胶猝灭剂市场规模还将进一步增长。预计到2031年全球光刻胶猝灭剂市场规模将突破2.5亿美元。
全球光刻胶猝灭剂主要生产企业包括日本富士胶片控股株式会社（FUJIFILM）、日本San-Apro公司、日本信越化学株式会社（Shin-Etsu）、日本JSR株式会社、日本住友化学株式会社（Sumitomo）等。在本土方面，江苏南大光电电子材料股份有限公司、上海新阳半导体材料股份有限公司、重庆沃肯新材料科技股份有限公司、西安拓超生物科技有限公司等为我国光刻胶猝灭剂市场主要参与者。目前，我国具备高性能光刻胶猝灭剂生产实力的企业数量较少，需求依赖进口。
新思界
行业分析人士表示，光刻胶猝灭剂作为化学放大光刻胶添加剂，应用前景较好。未来伴随下游行业发展速度加快，我国光刻胶猝灭剂市场空间有望扩展。目前，我国企业集中于生产中低端光刻胶猝灭剂，高端产品市场占比较低。而来伴随技术进步，具备高端光刻胶猝灭剂生产实力的企业将占据我国市场更大空间。
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