四（乙基甲基氨基）锆（IV），简称TEMAZ，分子式为C₁₂H₃₂N₄Zr，CAS号为175923-04-3，是一种有机金属化合物。四（乙基甲基氨基）锆（IV）常温常压下通常为无色至淡黄色液体，遇水可发生剧烈反应。四（乙基甲基氨基）锆（IV）作为无卤锆系薄膜前驱体，在原子层沉积（ALD）或化学气相沉积（CVD）工艺中应用较多。
四（乙基甲基氨基）锆（IV）主要原材料为四氯化锆。四氯化锆，又称氯化锆，化学式为ZrCl4，是一种无机化合物。四氯化锆制备方法包括二氧化锆氯化法、硅酸锆氯化法以及碳化锆氯化法等。近年来，我国四氯化锆技术不断进步，已有多家企业具备高纯度产品规模化生产实力。原材料优势将为我国四（乙基甲基氨基）锆（IV）行业发展奠定良好基础。
根据新思界产业研究中心发布的《
2026-2030年四（乙基甲基氨基）锆（IV）行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，四（乙基甲基氨基）锆（IV）可用于原子层沉积（ALD）或化学气相沉积（CVD）工艺中，固态电池、光电子以及先进铁电存储器件等领域为其终端市场。在固态电池领域，四（乙基甲基氨基）锆（IV）作为ALD锆前驱体，可用于固态电池正极活性材料制备过程中；在光电子领域，其可用于无氧BaZrS₃硫族钙钛矿薄膜制备过程中；在先进铁电存储器件领域，其可用于制备含ZrO₂的HfₓZr₁₋ₓO₂（HZO）铁电薄膜。
虽然应用前景广阔，但我国四（乙基甲基氨基）锆（IV）行业发展仍面临一定挑战。一方面，四（乙基甲基氨基）锆（IV）热稳定性相对较差，目前我国企业正在加大替代产品的研究，未来其市场份额将有所下滑；另一方面，四（乙基甲基氨基）锆（IV）客户认证周期较长，市场新进入者需要承担长周期和高不确定性客户验证成本。
江苏南大光电材料、安徽安德科铭半导体、绍兴中磊新材料、安徽博泰电子材料等为我国四（乙基甲基氨基）锆（IV）代表企业。南大光电已参与行业标准《SJ/T 12221—2026 电子级四（甲乙氨基）锆》的起草工作。
新思界
行业分析人士表示，四（乙基甲基氨基）锆（IV）作为无卤锆系薄膜前驱体，应用前景广阔。未来伴随半导体、固态电池以及光电子等行业发展速度加快，四（乙基甲基氨基）锆（IV）应用需求将进一步增长。目前，我国四（乙基甲基氨基）锆（IV）行业发展仍面临诸多问题亟待解决。未来随着本土企业持续发力，我国高品质四（乙基甲基氨基）锆（IV）市场占比有望提升。
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