光刻机又叫掩模对准曝光机，光刻系统等，是用光来制作一个图形工艺，将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程的器件或电路结构临时复制到硅片上的器件。光刻机是半导体产业中最关键设备，也被誉为半导体产业皇冠上的明珠，在半导体行业快速发展下，光刻机市场需求量较高。
根据新思界产业研究中心发布的
《2020-2024年光刻机行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，光刻机市场主要需求来源于IC前道光刻机、封装光刻机以及LED/MEMS/功率器件光刻机，从需求格局来看，目前先进封装光刻机市场需求更大且增速最高，是促进光刻机行业发展的主要动力。从应用市场来看，目前光刻机主要应用于面板（FPD）领域，随着全球FPD产业逐渐向我国转移，国内FPD产能持续攀升，预计到2020年国内FPD产能全球占比超过50%，成为全球最大的FPD生产基地，为光刻机行业发展奠定基础。近五年来以来，我国光刻机市场需求保持稳定增长，预计到2020年市场总需求量将超过260台/年。
在全球市场中，光刻机生产主要集中在ASML、NIKON、CANON以及上海微电子装备(SMEE)中，其中ASML市场占比较高，且几乎垄断了高端EUV光刻机市场。2019年以上四家公司光刻机总出货量达到409台左右，其中ASML光刻机出货量最高，出货量占比约为60%，其次是SMEE，出货量占比在13%左右。在营收方面，2019年ASML、NIKON、CANON、SMEE四家企业光刻机营收在1000亿元以上。
在国内，我国相关企业对于光刻机技术探索不断加深，也取得一定成就，目前主要生产企业有中微公司、北方华创、上海微电子、芯源微、盛美半导体、沈阳拓荆、华海清科、北京屹唐等，其中上海微电子已经实现90nm制程，是我国光刻机领军企业，在2019年光刻机出货量达到50台以上，在国际市场占比较高。
新思界
产业分析人士表示，光刻机作为半导体产业中最关键设备，在半导体产业快速发展下，市场需求持续增长，行业发展前景较好。从目前市场结构分析，全球以及我国光刻机高端市场均由ASML、NIKON等品牌占据，近几年我国虽然在光刻机技术方面有所突破，逐渐进入终端领域，但由于光刻机技术门槛较高，短时间内国高端内光刻机难以实现国产替代。
