光刻机是用光来制作一个图形工艺，将掩模版上的图形转移光刻胶上过程的器件或电路结构临时复制到硅片上的器件。光刻机是芯片制造的核心环节，光刻工艺水平直接决定芯片的制程和性能水平，近年来，随着半导体行业的快速发展，光刻机市场需求逐渐释放。
从产业链来看，光刻机产业链上游为原材料和零部件供应商，涉及到光刻胶、光刻气体等原材料和激光器、涂胶设备、遮光器等零部件；中游为光刻机生产商，根据有无掩膜，光刻机可分为有掩膜光刻机、无掩膜光刻机两大类；下游为应用层，光刻机在芯片制造、芯片封装、半导体制造以及LED制造等领域应用广泛。
光刻机行业存在较高的技术、资金以及研发壁垒，行业准进入门槛较高，受技术、研发等因素限制，目前我国高端光刻机市场仍由外资企业占据主导地位。我国在芯片领域的起步较晚，行业发展基础较为薄弱，光刻机是芯片制造的核心设备，在芯片可独立自主研发的推动下，光刻机国产替代需求持续释放。
根据新思界产业研究中心发布的《
2021-2025年光刻机行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示，随着光源、曝光方式不断改进，光刻机产品逐渐得到升级，目前光刻机产品已经经历了5代产品，分别为g-line光刻机、i-line光刻机、KrF光刻机、ArF光刻机以及EUV光刻机。2020年，全球光刻机销量达到415台，同比增长14.8%，全球光刻机市场规模达到134亿美元，其中i-line光刻机、KrF光刻机销量较高，两者合计销量达到270台。
全球光刻机市场集中度较高，其中荷兰ASML、日本尼康和日本佳能等企业占据全球光刻机市场主要份额。从国内市场来看，随着国内科技技术不断进步，光刻机行业内涌现出一批具有一定竞争实力的优秀企业，例如上海微电子、中微公司、北方华创、华海清科、盛美半导体等企业，随着国内企业研发实力增强，以及国家扶持力度加大，光刻机国产化率持续提升。
新思界
行业分析人士表示，光刻机是芯片制造的核心设备，近年来，随着半导体行业的快速发展，光刻机市场需求逐渐释放。光刻机行业存在较高的技术、研发壁垒，全球光刻机市场集中度较高，经过多年发展与积累，我国光刻机行业也取得了一定的成果，但目前国内高端光刻机市场仍由外资企业占据主导，未来我国高端光刻机国产替代空间广阔。
