脉冲激光沉积即用激光使材料挥发，从而将材料镀在衬底上的薄膜沉积技术。脉冲激光沉积系统（PLD）是基于脉冲激光沉积技术的设备，通常由设备厂商根据客户需求进行产品的定制化生产和组合，并提供相应的技术支持。
据新思界产业研究中心发布的
《“十四五”期间中国脉冲激光沉积系统行业分析及投资战略咨询报告》，脉冲激光沉积系统的工作涉及高能量脉冲辐射冲击固体靶、激光与物质之间相互作用、等离子羽状物形成，已熔化的物质通过等离子羽状物向已加热的基片表面的转移、膜生成等全过程，通常可以分为以下四个阶段：
（1）激光辐射与靶的相互作用：当激光束聚焦在靶表面并达到一定能量通量与短脉冲宽度时，靶表面的元素会快速受热达到蒸发温度，实现物质从靶中的分离，而分离出的物质与靶的化学计量相同。
（2）熔化物质的动态：熔化机制涉及碰撞、热、电子激发、层离、流体力学等许多复杂的物理现象，物质的瞬时溶化率较大程度取决于激光照射到靶上的流量。挥发出的物质向前散射峰化，并有向基片移动的倾向。
（3）熔化物质在基片的沉积：这是决定薄膜质量的关键阶段之一。激光光斑的面积与等离子的温度对沉积膜是否均匀有重要的影响。此外，靶与基片的距离也将影响熔化物质在基片的沉积，并主要表现为对熔化物质角度范围的影响。
（4）薄膜在基片表面的成核与生成：这一阶段是决定薄膜质量的另一个关键环节。放射出的高能核素碰击基片表面时，可能对基片造成各种破坏。高能核素溅射表面的部分原子，并在入射流与受溅射原子之间建立起一个碰撞区，成为凝结粒子的最佳场所。当凝结率比受溅射粒子的释放率高时，可快速达到热平衡，致使熔化粒子流减弱，实现膜在基片表面的生成。
脉冲激光沉积系统主要优点包括：（1）具有良好的保成分性，易获得期望化学计量比的多组分薄膜，且薄膜均匀性良好；（2）沉积速率高，试验周期短，衬底温度要求低；（3）兼容性好，无靶材种类限制，工艺参数调节灵活度高，可以制备多种薄膜材料；（4）便于清洁处理。
新思界
行业研究员表示，脉冲激光沉积系统配置灵活性高，主要功能模组包括生长室、进样室、靶台（可选水平式或垂直式）、样品台（可选激光加热、辐射加热等）、工艺气路、臭氧发生器、离子源、掩膜系统等。此外，部分脉冲激光沉积系统还支持配备高压RHEED，并可预留法兰，用于LEED、K-Cell、E-beam等。目前，国产脉冲激光沉积系统已推向市场，未来，随着中国科技创新实力的提升及制造业的转型升级，脉冲激光沉积系统的进口替代还将稳步推进。
