EUV光刻机技术壁垒极高 我国自主生产挑战巨大

　　EUV光刻机，即极紫外线光刻机。光刻是芯片生产过程中最为关键的环节，光刻机是制造芯片的核心装备，其性能直接影响芯片工艺，工艺制程越先进的芯片，对光刻机的性能与品质要求越高。EUV光刻机，是目前已经商业化应用的光刻机中精度最为优异的产品，5nm及以下工艺制程芯片只能采用EUV光刻机进行制造。

 

　　台积电是全球半导体市场中的领导者，芯片制造工艺先进，目前已经实现5nm芯片稳定量产，计划于2022年9月实现3nm芯片量产，2023年实现稳定量产，计划于2025年实现2nm芯片量产。全球芯片市场已经迈入5nm时代，5nm芯片产量不断提升，拉动EUV光刻机需求不断增长。2021年，全球EUV光刻机销量达到42台，与2020年相比增长了35.5%。

 

　　根据中国信通院数据显示，2021年，我国集成电路产量为3594.3亿块，同比增长33.3%，与2020年相比增速进一步提高。近年来，在国家政策的推动下，我国芯片产业链布局日益完善，芯片制造企业增多，市场对光刻机的需求旺盛。目前，国内中芯国际已经实现14nm芯片量产，为追赶台积电等企业步伐，正在加大7nm及以下工艺制程芯片开发力度，使得国内市场对EUV光刻机产生需求。

 

　　根据新思界产业研究中心发布的《2022-2027年中国EUV光刻机（极紫外线光刻机）行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，光刻机行业技术壁垒高，在设计、开发、制造等方面对企业实力要求高，并且需要数量庞大的高性能零部件，因此全球光刻机生产企业数量极少，而EUV光刻机作为目前市场中的最高端光刻机，其技术壁垒更高，在全球范围内，仅有荷兰ASML一家企业能够生产，日本的光刻机厂商以及其他国家均未实现EUV光刻机量产。

 

　　我国是全球最大的电子产品生产国，市场对芯片需求旺盛，光刻机作为制造芯片的核心装备，我国研制力度正在不断加大。现阶段，我国已经具备部分光刻机生产能力，但以低端光刻机为主，高端光刻机需求完全依靠进口，ASML是我国进口光刻机的主要来源。根据ASML财报显示，2022年第一季度，其光刻机总销量中，中国市场需求占比达到34.0%，位居第一。

 

　　EUV光刻机价格高昂，2018年，中芯国际向ASML下单一台EUV光刻机，价格高达1.2亿美元，由于美国干预，这台EUV光刻机未能按计划向中芯国际交付。新思界行业分析人士表示，美国正在极力打压我国半导体产业发展，我国高端光刻机进口难度日益增大，国内科研机构与企业开发高端光刻机的步伐进一步加快，例如传芯半导体宣布已经拥有20余项EUV光刻机技术专利。但短期来看，我国实现EUV光刻机自主生产挑战依然巨大。

 

关键字： EUV光刻机 极紫外线光刻机