临界尺寸扫描电子显微镜（CD-SEM），指利用扫描电子显微镜技术，以纳米级分辨率捕获半导体特征详细图像的量测设备。临界尺寸扫描电子显微镜具备量测精度高、景深大、分辨率高、对目标材料损伤小等优势，在半导体制造领域需求旺盛。
临界尺寸扫描电子显微镜通常由控制系统、电源、电子光学系统、图像显示系统、记录系统、真空系统以及信号检测系统等组件构成。电子光学系统包括高精度电磁透镜、偏转线圈以及电子发射材料。目前，受技术壁垒高、生产成本高等因素限制，我国临界尺寸扫描电子显微镜核心组件高度依赖进口，这将为我国临界尺寸扫描电子显微镜行业发展带来一定挑战。
临界尺寸扫描电子显微镜是一种半导体制造过程中使用的量测设备。近年来，随着AI算力需求增长，半导体制造行业发展前景持续向好。临界尺寸扫描电子显微镜适用于半导体先进封装工艺、薄膜沉积工艺以及刻蚀工艺中，能够通过量测半导体器件的结构尺寸和形状，提升良品率。
根据新思界产业研究中心发布的《
2025年中国临界尺寸扫描电子显微镜（CD-SEM）市场专项调研及企业“十五五规划”建议报告》显示，随着应用需求日益旺盛，临界尺寸扫描电子显微镜行业发展空间持续扩展。2024年全球临界尺寸扫描电子显微镜市场规模达到近5亿美元，同比增长超过5%。预计未来一段时间，随着半导体产业发展速度加快以及技术进步，临界尺寸扫描电子显微镜市场规模还将进一步增长。预计到2030年，全球临界尺寸扫描电子显微镜市场规模将突破7亿美元。
全球临界尺寸扫描电子显微镜市场主要参与者包括日本株式会社日立制作所（Hitachi）、美国KLA公司等。在本土方面，爱立特微电子、东方晶源、上海精测、矽视科技、青田恒韧等为我国已布局临界尺寸扫描电子显微镜行业研发及生产赛道的企业。东方晶源自主研发的临界尺寸扫描电子显微镜，已获得“第七届集成电路产业技术创新奖”。
新思界
行业分析人士表示，作为一种半导体量测设备，临界尺寸扫描电子显微镜应用需求旺盛，行业发展前景持续向好。目前，我国临界尺寸扫描电子显微镜行业发展仍面临诸多问题亟待解决。预计未来一段时间，随着本土企业持续发力，我国临界尺寸扫描电子显微镜市场国产化进程将进一步加快。
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