高纯金属靶材主要有高纯铝靶、高纯钽靶、高纯钨钛靶等，其产业链上游是金属提纯厂商，中游是靶材制造厂商、溅射镀膜厂商，下游主要是半导体、平板显示、信息存储、电子器件、光伏电池、光学应用等终端应用领域。高纯金属靶材行业是在半导体产业需求的拉动下产生的，随着科技不断进步，信息存储、平板显示、光伏等产业逐步发展壮大，使得高纯金属靶材应用领域不断拓宽。
在高纯金属靶材下游应用领域中，平板显示需求占比最大，达到34%；其次是信息存储领域，需求占比为29%；光伏电池领域排名第三，需求占比为19%；半导体领域需求占比为12%。半导体产业对高纯金属靶材的需求量占比较小，但其对高纯金属靶材的纯度、成分、结构、性能要求极为严苛，需求的产品是高纯金属靶材中技术含量最高的产品。
根据新思界产业研究中心发布的
《2020-2024年中国高纯金属靶材行业市场行情监测及未来发展前景研究报告》显示，2011-2019年，我国半导体用高纯金属靶材市场年均复合增长率为15.7%；2019年，我国半导体用高纯金属靶材市场规模约为21.9亿元。受益于全球半导体产业逐步向中国大陆地区转移，我国高纯金属靶材市场持续快速增长。除半导体产业外，我国光伏发电、显示面板、信息存储等行业也在快速发展，共同推动我国高纯金属靶材市场规模不断扩大。
高纯金属靶材是典型的技术密集型行业，进入壁垒高。在全球范围内，实力强大的高纯金属靶材供应商主要是日矿金属、霍尼韦尔、日本东曹、普莱克斯、住友化学、日本爱发科等，均为日本与美国企业。在下游行业快速发展的拉动下，我国高纯金属靶材市场需求快速增长，成为主要需求国之一，但直到21世纪初，我国还不具备高纯金属靶材生产能力，市场被国外企业所垄断。
为配套下游行业发展，我国进入高纯金属靶材行业布局的资本开始增多，相关技术、经营积累日益丰富，现阶段实力较强的代表性企业主要是有研科技、江丰电子、中金研、恩特莱特等。但我国高纯金属靶材企业生产的产品主要是中低端产品，在半导体用高端产品领域仍无法与国际巨头相抗衡，而半导体产业技术迭代速度加快，我国高纯金属靶材行业发展仍面临巨大技术升级挑战。
新思界
行业分析人士表示，我国经济增长正在由高速度向高质量转型，国家对高技术产业发展日益重视。在高纯金属靶材领域，2016年9月工信部印发的《有色金属工业发展规划（2016－2020年）》、2016年12月工信部等四部委联合印发的《新材料产业发展指南》等政策均给予大力支持。我国市场对高纯金属靶材需求持续快速增长，国家政策对行业发展的支持力度不断加大，此外，国际政治经济形势多变，为保障半导体、面板、光伏等行业健康发展，我国高纯金属靶材行业亟需突破相关技术瓶颈，实现高端产品进口替代。
