靶材指的是在溅射过程中被高速金属等离子体流轰击的目标材料，是沉积薄膜的原材料，又被称作为溅射靶材。高纯溅射靶材指的是被应用在半导体、太阳能电池、电子器件、平面显示器等领域的，金属纯度为99.9%以上的靶材。
高纯溅射靶材按照材质划分，可分为合金靶材、陶瓷靶材、金属靶材；按照形状分，可分为平面靶材、旋转靶材，其中平面靶材正常溅射消耗量约为38%左右，而旋转靶材正常溅射消耗量约为75%左右。从应用需求方面来看，高纯溅射靶材在平板显示领域需求占比最高，约为35%，其次是记录媒体领域，占比为30%，太阳能电池领域排在第三，占比为20%，剩余领域占比较小。
根据新思界产业研究中心发布的
《2020-2025年高纯溅射靶材行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，近几年，受终端领域市场需求持续攀升，以及高纯溅射靶材行业技术不断突破，产品性能不断提升，高纯溅射靶材市场规模不断扩大，在2019年市场规模达到160亿元左右，未来几年得益于全球半导体产业向中国转移，我国平板显示器产能不断扩张，我国高纯溅射靶材市场规模仍将保持增长趋势，预计到2023年将达到298亿元，年复合增长率为16.8%。
在生产制造方面，高纯溅射靶技术门槛较高，生产企业相对较少，全球市场主要被莱克斯、住友化学、爱发科、霍尼韦尔、日矿金属、东曹等跨国企业占据，其中日矿金属市场占比最高，在32%左右，霍尼韦尔、东曹二者占比相差较小，分别为20%和18%。国内高纯溅射靶主要生产企业有江丰电子、有研新材、福建阿石创、隆华科技等。近几年，受益于半导体产业向我国转移，以及政府的支持，我国高性能靶材企业迅速崛起，部分企业达到国际先进水平，但目前在全球市场中占比较小，未来仍有加大提升空间。
新思界
产业分析人士表示，高纯溅射靶在电子产业中应用需求较高，近几年，全球半导体产业向我国转移，国内高纯溅射靶市场需求持续攀升，行业发展前景广阔。在生产方面，高纯溅射靶由于技术门槛较高，行业内企业数量较少，市场集中度较高，目前跨国企业占据全球以及我国市场，但本土企业近几年技术不断革新，部分企业已经能够达到国家水平，逐渐实现国产替代。
