光刻胶又称光致抗蚀剂，是利用光化学反应，经光刻工艺将所需要的微细图形从掩膜版转移到待加工基片上的图形转移介质。光刻胶组成成分包括光引发剂、单体、光刻胶树脂和添加助剂等，其中光刻胶树脂含量占比达到50%以上，单体含量占比在38%左右。光刻胶在集成电路、半导体、平板显示、PCB印刷线路板等领域应用广泛，近年来，随着电子信息产业蓬勃发展，我国光刻胶市场规模持续扩大。
根据新思界产业研究中心发布的《
2020-2024年光刻胶行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，自2010年以来，全球光刻胶市场规模呈现出持续上升的发展趋势，2010-2019年均复合增长率达到5.2%，2019年，全球光刻胶市场规模接近88亿美元，预计未来3年全球光刻胶市场规模将保持4.8%的年均复合增长率增长，2022年全球光刻胶市场规模将超过101亿美元。
随着半导体、显示面板、PCB等产业东移，我国光刻胶市场需求增加，市场规模持续扩大，2019年，我国市场规模在72亿元左右。全球光刻胶市场结构较为均衡，PCB光刻胶、显示面板光刻胶、半导体光刻胶、其他光刻胶市场占比均在25%左右，相比之下，我国光刻胶市场发展不均衡，市场以PCB光刻胶为主，产量占比达到90%以上，而显示面板光刻胶、半导体光刻胶产量占比在3%左右。
光刻胶是半导体材料中技术壁垒最高的品种之一，因此全球光刻胶市场较为集中，产品多出自日本、美国以及韩国等国家的企业中，外资企业占据全球光刻胶市场的主导地位。目前我国PCB光刻胶国产化率达到52%，而半导体光刻胶产品基本依赖于进口。整体来看，我国光刻胶国产化水平严重不足，光刻胶产品国产替代空间广阔。
受市场前景吸引，我国本土企业不断加大自主研发能力，争夺国内光刻胶市场份额，目前国内已经涌现出一批具有一定竞争实力的优秀企业，例如飞凯材料、东方材料、北京科华微电子、永太科技、晶瑞股份等企业。随着国家政策持续利好，以及国内企业自主研发能力提升，未来我国光刻胶产业将逐渐达到供应链自主可控的需求。
新思界
行业分析人士表示，随着相关产业东移，以及国内电子信息产业蓬勃发展，带动我国光刻胶市场规模持续扩大。目前我国光刻胶产品以中低端的PCB光刻胶为主，半导体光刻胶、显示面板光刻胶国产替代空间广阔。随着国内企业自主研发能力提升，光刻胶产品国产替代步伐将逐渐加快。
