光致产酸剂（Photo Acid Generator，PAG）是一类在光、射线、等离子体等辐射下能够分解生成特定酸的化合物，所产生的酸可使酸敏树脂发生分解或者交联反应，从而使光照部分与非光照部分溶解反差增大。由于光致产酸剂（PAG）在受到外界刺激下形成可控酸，因此，可以应用于光刻胶（即抗蚀剂）领域。光致产酸剂（PAG）下游为半导体光刻胶，终端是消费电子、家用电器、信息通讯、汽车电子、航空航天、军工等国民经济和国防建设的诸多领域。
目前，全球光致产酸剂（PAG）市场具有高度垄断性，由日本和美国企业主导，美国企业主要是贺利氏电子化学材料公司在美国俄亥俄州的生产基地；日本企业主要有东洋合成工业株式会社、FJIFILM和光纯药株式会社、San-Apro公司等。其中，东洋合成工业株式会社是全球最大的光致产酸剂（PAG）生产厂商。整体来看，国际巨头长期控制着全球光致产酸剂（PAG）产品的供应链，市场集中度较高。而由于中国尚未突破光致产酸剂（PAG）产业化瓶颈，国产光致产酸剂（PAG）问世尚待时日。
我国光刻胶的研究始于20世纪70年代，最初阶段与国际水平相差无几，几乎和日本同时起步，但由于种种原因，差距愈来愈大。为加快推进我国光刻胶及其相关产业发展、突破“卡脖子”技术瓶颈，国家层面先后印发一系列鼓励性、支持性政策，对于国内KrF（248nm）和ArF（193nm）光刻胶，以及光致产酸剂（PAG）的产业化生产具有重要的推动作用。2019年11月25日，工信部发布《重点新材料首批次应用示范指导目录（2019年版）》，“集成电路用光刻胶及其关键原材料和配套试剂”入选该目录，其中包括“KrF/ArF/ArFi光刻胶专用高纯度光致酸剂”。
新思界
行业研究员表示，中国的半导体光刻胶供应厂商主要有北京科华微电子、晶瑞股份、南大光电、容大感光等，国内相关厂商技术追赶迅速；从行业层面来看，国内多家晶圆厂将会面临KrF光刻胶缺货的处境，目前大陆多家晶圆厂正在加速验证导入本土厂商彤程的KrF光刻胶。预计伴随KrF光刻胶、ArF光刻胶研发完毕顺利完成客户验证后，国内半导体光刻胶市场将进入国产替代的高峰期，这也将为光致产酸剂（PAG）市场带来越来越大的发展动力。
