溅射靶材是一种用溅射沉积或薄膜沉积技术制造薄膜的材料。溅射靶材种类多样，根据形状不同可分为圆形靶材、方形靶材、异形靶材等；根据材质不同可分为合金靶材、金属靶材、化合物靶材等。
溅射靶材产业链上游为铝、铜、氧化物、硅化物、镍铬合金等原材料的供应；中游为产品的生产制作；下游广泛应用于半导体、光伏电池、平面显示、信息存储、智能玻璃等领域。
从下游市场来看，平面显示领域在溅射靶材市场中占比超过33%，位列第一，信息存储领域占比接近30%，位列第二，光伏电池占比超过20%，位列第三。
近年来，国家出台多项政策推动高新技术产业和光伏产业发展。2021年12月，中央网络安全和信息化委员会印发《“十四五”国家信息化规划》，提出要推动计算芯片、存储芯片等创新，加快集成电路设计工具、重点装备和高纯靶材等关键材料研发。2022年2月，国家能源局、生态环境部等部门联合发布《“十四五”可再生能源发展规划》，提出要发挥区域市场优势， 主要依托省级和区域电网消纳能力提升，创新开发利用方式，推进松辽、冀北、黄河下游等以就地消纳为主的大型风电和光伏发电基地建设。溅射靶材具有良好发展环境和广阔消费市场。
新思界
行业分析人士表示，溅射靶材属于资金密集型和技术密集型产业，具有较高行业门槛和技术壁垒。美国、日本等国家溅射靶材行业起步早，发展时间长，在研发能力、生产技术、生产规模等方面具有较强竞争优势，在全球市场中占据主导地位。我国溅射靶材行业起步晚，在国家政策及下游市场需求的推动下快速发展，整体生产水平不断进步，但与国际先进水平相比仍有一定差距，行业仍有较大发展空间。目前市场上溅射靶材国外品牌有东曹、霍尼韦尔、日矿金属、普莱克斯等，国内生产企业主要有研新材料股份有限公司、宁波江丰电子材料股份有限公司、隆华科技集团（洛阳）股份有限公司等。
