五（二甲氨基）钽（PDMAT），化学式为Ta（NMe₂）₅，是由钽原子通过配位共价键与五个二甲氨阴离子（NMe₂⁻）配位形成的有机金属化合物，常温下为白色至淡黄色固体，对空气、水汽非常敏感，能溶于饱和烃类、苯、二氯甲烷等有机溶剂中。
五（二甲氨基）钽可用于半导体工业、材料科学、有机合成等领域。在有机合成中，五（二甲氨基）钽可作为催化剂，促进特定的碳-碳键形成反应；在半导体工艺中，五（二甲氨基）钽作为前驱体，可通过化学气相沉积（CVD）、原子层沉积（ALD）工艺生长氮化钽（TaN）或五氧化二钽（Ta₂O₅）薄膜。
氮化钽薄膜、五氧化二钽薄膜是半导体领域重要的应用材料，如五氧化二钽薄膜具有高介电常数、高折射率，可作为动态随机存储器（DRAM）、电容器、气敏传感器等的关键材料。五（二甲氨基）钽作为沉积氮化钽薄膜、五氧化二钽薄膜的关键原料，市场需求空间广阔。
根据新思界产业研究中心发布的
《2026-2031年中国五（二甲氨基）钽（PDMAT）行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，近年来，半导体等下游需求持续释放，为五（二甲氨基）钽市场发展提供了强劲增长动力，2025年全球五（二甲氨基）钽市场规模达0.56亿美元，预计2032年将达到0.84亿美元。
五（二甲氨基）钽的初始纯度直接影响所得薄膜的品质，ALD级钽前驱体产品要求金属杂质控制在1ppb以下。目前五（二甲氨基）钽主要以五氯化钽为原料进行制备，广东先导微电子科技有限公司申请的专利一种电子级五（二甲氨基）钽的制备方法，是以五氯化钽和二甲胺反应形成中间体，再通过三烷基胺络合反应形成五（二甲氨基）钽产物，最后经低温重结晶实现提纯，该方法具有产品纯度高、产率较高等特点。
新思界
行业分析人士表示，目前我国钽前驱体国产化率较低，尤其是高端ALD级钽前驱体，高端五（二甲氨基）钽国产替代空间较大。我国五（二甲氨基）钽市场布局企业包括正帆科技、纯铭新材等，其中纯铭新材可提供6N级五（二甲氨基）钽，但尚未通过主流晶圆厂全流程验证。
在标准建设方面，国家标准GB/T 46191-2025《电子级五（二甲氨基）钽》于2025年10月5日正式发布，标准适用于沉积氮化钽、氧化钽和钽掺杂物等钽基薄膜的电子级五（二甲氨基）钽，起草单位包括南大光电、长江存储、安徽亚格盛电子、宁波南大光电、合肥安德科铭、安徽博泰电子等。
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