二氯二氧化钼（MoO2Cl2），是一种重要的化学物质，外观为黄色至橙色的晶体或粉末，在极性溶剂中溶解较好。
二氯二氧化钼可作为催化剂或催化剂前体、添加剂、钼前驱体等，应用在有机合成、石油炼制、染料、涂料、半导体等领域。通过等离子体增强化学气相沉积（PECVD）、原子层沉积（ALD）、区域选择性沉积（ASD）等技术，可将二氯二氧化钼转化为高质量钼氧化物薄膜，钼氧化物薄膜在电子器件、传感器、光学器件等领域具有广阔应用前景。
金属钼具有极高熔点、热导率较高、电阻率较低、热膨胀系数较低等特点，近年来，随着7nm及以下先进制程产能扩展，金属钼逐步替代传统硅基材料、钨基材料等，成为下一代器件的关键候选材料。
目前五氯化钼（MoCl5）是CVD（化学气相沉积）工艺中常用钼源，相比于五氯化钼，二氯二氧化钼具有填充性能更好、薄膜电阻率更低、蒸气压更高、不会产生氟化物杂质等优势，正成为业界研究和应用热点。根据新思界产业研究中心发布的
《2025-2029年中国二氯二氧化钼（MoO2Cl2）市场分析及发展前景研究报告》显示，预计2025-2030年，全球半导体用二氯二氧化钼市场将以30%以上的年均复合增长率增长。
我国政策支持新一代半导体材料产业发展，国家“十四五”规划明确将第三代半导体材料列为重点攻关方向，二氯二氧化钼是将半导体工艺从7nm推向2nm的关键潜力材料，将获得政策倾斜。
近年来，在材料制备、工艺优化、系统集成等方面协同创新、联动发展下，二氯二氧化钼逐渐从实验室走向产业化、商业化。在设备方面，半导体设备巨头Lam Research已推出全球首款钼原子层沉积设备。
在材料方面，为满足未来芯片制造需求，各大材料供应商正积极扩大二氯二氧化钼生产能力，我国布局企业包括荆州太和气体（拟建二氯二氧化钼生产线10吨/年）、湖南奕嘉新材（已实现5N级二氯二氧化钼量产）、先导科技集团、福建福豆新材料、湖南华京粉体材料等。
新思界
行业分析人士表示，二氯二氧化钼有望攻克3nm以下先进制程的技术瓶颈，是“后摩尔时代”关键材料之一，随着无氟CVD工艺需求释放，以及AI芯片、3D存储、新型存算单元等快速发展，二氯二氧化钼市场将迎来发展机遇。我国企业在二氯二氧化钼研发、制备上已取得重大突破，同时叠加国产替代红利，国产二氯二氧化钼市场占比将不断提升。
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