四（乙基甲基氨基）铪，又称四乙基甲基氨基铪，简称TEMAHf，是一种金属铪系前驱体，可与其他共反应物沉积氧化物、氮化物、硫化物等薄膜，在存储器件、光学涂层、功率器件等领域具有广阔应用前景。
四（乙基甲基氨基）铪是原子层沉积（ALD）、化学气相沉积（CVD）工艺生长氮化铪（HfN）或氧化铪（HfO₂）的关键原材料。
前驱体材料分为硅、金属、High-k、Low-k材料等类别。在减薄至2nm以下时，传统二氧化硅（SiO2）栅介质层容易引发量子隧穿效应，导致漏电流激增和功耗失控，High-k材料（高介电常数材料）的介电常数显著高于传统二氧化硅，可在相同电容下增加物理厚度，从而抑制漏电流并提升器件可靠性。近年来，随着芯片制程进入纳米级，High-k材料应用需求释放。氧化铪具有高k值、热稳定性良好，是High-k材料主流选择。
根据新思界产业研究中心发布的
《2025-2029中国四（乙基甲基氨基）铪（TEMAHf）行业市场现状综合研究及投资前景预测报告》显示，原子层沉积（ALD）是制备High-k薄膜的核心技术，四（乙基甲基氨基）铪作为ALD氧化铪合成关键材料，随着氧化铪在逻辑器件栅介质、DRAM电容等场景广泛应用，其市场需求不断释放。
现有合成方法得到的四（乙基甲基氨基）铪纯度普遍较低，目前电子级四（乙基甲基氨基）铪市场需求仍依赖进口，供应商包括德国默克集团、法国法国液化空气集团（Air Liquide）等。高端前驱体依赖进口，已成为制约我国集成电路行业发展的“卡脖子”问题，为打破技术垄断，我国开展了一系列高端前驱体产业化关键技术研发，以实现铪系、钴系、硅系、钽系等高端前驱体产品产业化能力，这为电子级四（乙基甲基氨基）铪国产化奠定了基础。
目前我国电子级四（乙基甲基氨基）铪技术或产品布局企业包括合肥安德科铭半导体科技有限公司、铜陵正帆电子材料有限公司（正帆科技全资子公司）、太和气体（荆州）有限公司等。
新思界
行业分析人士表示，前驱体材料是半导体薄膜沉积、外延生长、蚀刻、清洗、掺杂等工艺的核心材料，市场呈高增长态势，2025-2030年我国半导体前驱体市场规模将从146亿元增长至300亿元。半导体前驱体市场集中度较高，我国国产替代空间大，四（乙基甲基氨基）铪作为铪前驱体之一，市场存在较大开发空间。
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