CF用光掩膜版是专门用于TFT-LCD彩色滤光片制程的图形转移母版，其作用是在玻璃基板上通过曝光工艺形成红、绿、蓝三色滤光片图形及黑矩阵图案。
TFT-LCD生产过程主要包含TFT-Array与CF两大光刻制程：TFT-Array制程通过多步光刻制备薄膜晶体管电路阵列；CF制程则完成彩色滤光片图形制备。两类工序配套的光掩膜版，在基板规格、制造精度要求方面均存在明显区别。
从产品规格来看，CF用光掩膜版常见基板规格包含450×550×5.0 mm、700×800×8.0 mm、850×1200×10.0 mm、1220×1400×13.0 mm等，其关键尺寸CD公差分为C级（±0.35 μm）、B级（±0.50 μm）、A级（±0.75 μm）三档，套刻位置精度（Registration）一般可达±0.5 μm。
CF用光掩膜版的核心应用场景聚焦于TFT-LCD面板的彩色滤光片生产制程，下游客户覆盖京东方、华星光电、天马微电子等国内头部显示面板制造企业。伴随行业技术迭代升级，显示产品逐步从传统非晶硅（a-Si）TFT-LCD，向LTPS、AMOLED等高端显示技术演进，市场对CF掩膜版的图形精细化程度、套刻位置精度等核心性能指标提出了更高标准的要求。相较于TFT-LCD，AMOLED屏幕的彩色滤光片图形化制备工艺存在一定差异，但在部分AMOLED量产产线中，CF用光掩膜版仍可用于彩色滤光片加工制程，具备持续的产业应用价值。
我国CF用光掩膜版生产企业主要有深圳市路维光电股份有限公司、深圳清溢光电股份有限公司等。路维光电CF用PSM产品2024年完成客户验证并实现量产，TFT-Array用PSM掩膜版也已打通关键工艺环节。清溢光电2024年完成中高端半透膜掩膜版（HTM）的研发与规模化量产，并于2025年正式启动PSM相移掩膜版的产品研发工作。
新思界
行业分析人士表示，在CF用光掩膜版的上游石英基板领域，湖北菲利华石英玻璃股份有限公司已具备G4.5至G10.5代TFT-LCD用光掩膜基板全规格制备能力，子公司合肥光微光电科技有限公司的光掩膜基板精密加工项目已建成投产，具备批量供货能力，现阶段实现小批量出货，为国内光掩膜基板精加工环节补齐了产业链短板。
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