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(3,3-二甲基-1-丁炔)六羰基二钴(CCTBA):CVD/ALD中沉积钴薄膜重要前驱体

2026-09-09 17:56      责任编辑:王昭    来源:www.newsijie.com    点击:


  (3,3-二甲基-1-丁炔)六羰基二钴,简称CCTBA,分子式C₁₂H₁₀Co₂O₆,是一种有机金属配合物,外观为深红色液体,分子结构以两个钴原子为核心,通过六羰基配位与3,3-二甲基-1-丁炔(叔丁基乙炔)形成稳定的络合结构。

  (3,3-二甲基-1-丁炔)六羰基二钴常温下呈液态,具备良好的挥发性、较高的蒸气压、较小的分子尺寸、良好的热稳定性,适合作为化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)的前驱体源,制造集成电路的钝化层、绝缘层等重要功能层。

  (3,3-二甲基-1-丁炔)六羰基二钴能够在较温和的工艺条件下高效沉积金属钴(Co)薄膜。金属钴(Co)薄膜具有良好的电学、机械和物理性能,可制造铜金属结构的CoSi₂触点、帽/垫片等,或用作铜互连件的替代材料,在微电子领域展现出巨大的应用潜力。

  作为CVD、ALD中沉积钴薄膜的重要前驱体之一,随着集成电路产能扩张、先进制程技术突破,(3,3-二甲基-1-丁炔)六羰基二钴市场亦存在广阔发展空间。(3,3-二甲基-1-丁炔)六羰基二钴可通过将羰基钴试剂和正己烷混合,向其中滴加3,3-二甲基-1-丁炔,反应后分离得到。

  根据新思界产业研究中心发布的《2026-2030年(3,3-二甲基-1-丁炔)六羰基二钴(CCTBA)行业深度市场调研及投资策略建议报告》显示,近年来,(3,3-二甲基-1-丁炔)六羰基二钴合成技术不断突破,江苏南大光电材料股份有限公司、浙江博瑞电子科技有限公司、上海庆建廷科技有限公司、大连科利德光电子材料有限公司等企业均申请了其合成专利,为其产业化发展奠定了基础。

  此外国内(3,3-二甲基-1-丁炔)六羰基二钴市场参与者还包括福建纯铭新材料科技有限公司、福建福豆新材料有限公司、中巨芯科技股份有限公司、江西力华特新材料有限公司等。

  在标准制定方面,SJ/T 12209-2026《电子级(3,3-二甲基-1-丁炔)六羰基二钴》已正式出台,将于2026年12月1日正式实施,本文件规定了电子级(3,3-二甲基-1-丁炔)六羰基二钴产品的技术要求、检测方法、检验规则、标志、包装、运输及储存等信息,有望推动行业进入规范化发展阶段。

  新思界行业分析人士表示,(3,3-二甲基-1-丁炔)六羰基二钴作为钴基前驱体材料,在集成电路功能层制备、微电子器件制造等领域具有重要应用价值。近年来,为满足不断增长的市场需求,我国企业积极进行(3,3-二甲基-1-丁炔)六羰基二钴技术研发和产能布局,随着相关项目陆续投产,(3,3-二甲基-1-丁炔)六羰基二钴国产化进程将加快,进而为我国集成电路产业链的自主可控提供坚实的基础材料保障。

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