低压化学气相沉积设备（LPCVD），指在常压CVD（APCVD）基础上发展起来的一种薄膜沉积设备。低压化学气相沉积设备的工作原理为利用低压环境增大气体分子平均自由程，使反应前驱体在气相中扩散不再成为速率限制，进而获得高度一致薄膜厚度。低压化学气相沉积设备具备颗粒污染更低、台阶覆盖能力更强、薄膜均匀性更优等特点，在半导体制造以及光伏电池制造领域有所应用。
按照反应器构型不同，低压化学气相沉积设备可分为卧式管式低压化学气相沉积设备和立式管式低压化学气相沉积设备。卧式管式低压化学气相沉积设备具备结构简单、维护便捷等优势，属于传统低压化学气相沉积设备；立式管式低压化学气相沉积设备采用气体自上而下流动设计，可批量处理沉积材料。未来伴随细分产品应用需求增长，低压化学气相沉积设备行业景气度有望提升。
石英反应管、真空泵系统、晶舟、气体输送与流量控制单元、加热与温控系统、压力与工艺控制系统等为低压化学气相沉积设备主要组成部分。石英反应管为低压化学气相沉积设备关键耗材，其质量对于沉积均匀性与设备维护周期起到决定性作用。目前，我国已有多家企业具备高纯石英反应管自主研发及规模化生产实力，这将为低压化学气相沉积设备行业发展提供有利条件。
根据新思界产业研究中心发布的《
2026-2031年低压化学气相沉积设备（LPCVD）行业市场深度调研及投资前景预测分析报告》显示，低压化学气相沉积设备在半导体制造以及光伏电池制造领域有所应用。在半导体制造领域，低压化学气相沉积设备制得的硅基薄膜可用于3D NAND深孔中的沟道和介质层结构中；在光伏电池制造领域，其可用于TOPCon电池隧穿氧化层/掺杂多晶硅钝化接触结构中。未来伴随我国半导体以及光伏行业发展速度加快，低压化学气相沉积设备应用需求有望增长。
全球低压化学气相沉积设备代表企业包括泛林集团和东京电子。在本土方面，北方华创、中微公司、拉普拉斯等为我国低压化学气相沉积设备市场主要参与者。北方华创推出的低压化学气相沉积设备已通过主流晶圆代工厂验证并进入小批量交付。新思界
行业分析人士表示，未来伴随本土企业持续发力以及技术进步，我国低压化学气相沉积设备产量有望增长。
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